Nitride semiconductor device and manufacturing method therefor
WO2025239103
Art A1
20. November 2025
Anmelder: ROHM CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025239103
- Aktenzeichen
- EP25803354
- Anmeldetag
- 16. April 2025
- Veröffentlichung
- 20. November 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10D30/47H03H3/02H03H9/17H03H9/25H10D30/83H10D30/87H10N30/30H10N30/853
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ROHM CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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