Cleaning agent for semiconductor substrate, method for manufacturing cleaned semiconductor substrate, and method for manufacturing electronic device

WO2025239105 Art A1 20. November 2025

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025239105
Aktenzeichen: EP25803356
Anmeldetag: 16. April 2025
Veröffentlichung: 20. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/22C11D7/32C11D7/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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