Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

WO2025239227 Art A1 20. November 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025239227
Aktenzeichen: EP25803476
Anmeldetag: 1. Mai 2025
Veröffentlichung: 20. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D317/70C07D333/28C08F12/22C08F20/10G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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