Substrate cleaning method, and method for manufacturing mask blank

WO2025239266 Art A1 20. November 2025

Anmelder: AGC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025239266
Aktenzeichen: EP25803514
Anmeldetag: 8. Mai 2025
Veröffentlichung: 20. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B3/12G03F1/82

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AGC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.331 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von