Method for producing polymer, method for producing chemically amplified resist composition, method for forming resist pattern, polymer, and chemically amplified resist composition

WO2025239351 Art A1 20. November 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025239351
Aktenzeichen: EP25803595
Anmeldetag: 13. Mai 2025
Veröffentlichung: 20. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C08F8/00C08F212/02C08F212/14C08F220/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von