Verfahren und Lasersystem zum Erzeugen eines Plasmas eines Targetmaterials zum Erzeugen einer Sekundärstrahlung Und/oder zum Vermitteln einer Kernfusionsreaktion

WO2025242367 Art A1 27. November 2025

Anmelder: TRUMPF LASER SE, TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025242367
Aktenzeichen: EP25720355
Anmeldetag: 16. April 2025
Veröffentlichung: 27. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF LASER SE
TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURIN
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Trumpf Laser

Trumpf Laser ist ein deutsches Unternehmen der Trumpf-Gruppe für industrielle Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente, Werkzeug- und Fertigungstechnik sowie Optik, ergänzt durch Mess- und Schaltungstechnik. Die Titel betreffen unter anderem die Erzeugung ultrakurzer Laserpulse und Laserschweißverfahren.

283 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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