Positive resist material and pattern-forming method

WO2025243662 Art A1 27. November 2025

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025243662
Aktenzeichen: EP25807396
Anmeldetag: 17. März 2025
Veröffentlichung: 27. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/30G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RESONAC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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