Substrate liquid processing device, substrate liquid processing method, and computer-readable recording medium

WO2025243862 Art A1 27. November 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025243862
Aktenzeichen: EP25807594
Anmeldetag: 9. Mai 2025
Veröffentlichung: 27. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/00C25D7/12C25D17/06C25D17/08C25D21/12H01L21/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von