Compound, composition for forming lithographic film, resist film, and method for forming resist pattern

WO2025243949 Art A1 27. November 2025

Anmelder: THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY, MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025243949
Aktenzeichen: EP25807679
Anmeldetag: 16. Mai 2025
Veröffentlichung: 27. November 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C07C381/12C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von