Gas intake system and furnace pipe apparatus

WO2025246757 Art A1 4. Dezember 2025

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH (LINGANG), INC. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025246757
Aktenzeichen: EP25814535
Anmeldetag: 27. April 2025
Veröffentlichung: 4. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/52C30B25/14C30B25/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH (LINGANG), INC.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von