Dual comb radiation source and heterodyne detection for overlay metrology systems and methods

WO2025247616 Art A1 4. Dezember 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CYMER, LLC 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025247616
Aktenzeichen: EP25725435
Anmeldetag: 9. Mai 2025
Veröffentlichung: 4. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CYMER, LLC
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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