Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern-forming method, and electronic device manufacturing method

WO2025249390 Art A1 4. Dezember 2025

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025249390
Aktenzeichen: EP25815806
Anmeldetag: 26. Mai 2025
Veröffentlichung: 4. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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