Ion-implanted resist underlayer film, resist underlayer film-forming composition, method for producing ion-implanted resist underlayer film, and laminate

WO2025249557 Art A1 4. Dezember 2025

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025249557
Aktenzeichen: EP25815970
Anmeldetag: 30. Mai 2025
Veröffentlichung: 4. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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