Silica-based slurry for selective polishing of carbon-based films
WO2025250750
Art A1
4. Dezember 2025
Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025250750
- Aktenzeichen
- EP25816733
- Anmeldetag
- 29. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 4. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09G1/02C09K3/14H01L21/3105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ENTEGRIS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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