Radiation-sensitive composition, pattern forming method, and onium salt compound
WO2025253856
Art A1
11. Dezember 2025
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025253856
- Aktenzeichen
- EP25819617
- Anmeldetag
- 13. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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