Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and onium salt compound

WO2025253859 Art A1 11. Dezember 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025253859
Aktenzeichen
EP25819620
Anmeldetag
13. Mai 2025
Veröffentlichung
11. Dezember 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004C07C307/02C07C309/02C07C309/12C07C309/17C07C309/19C07C309/39C07C381/12C07D307/00C07D307/33C07D317/70C07D317/72C07D321/10C07D327/04C07D327/06C07D333/46C07D333/76G03F7/20G03F7/038G03F7/039
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen