Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and onium salt compound
WO2025253859
Art A1
11. Dezember 2025
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025253859
- Aktenzeichen
- EP25819620
- Anmeldetag
- 13. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C307/02C07C309/02C07C309/12C07C309/17C07C309/19C07C309/39C07C381/12C07D307/00C07D307/33C07D317/70C07D317/72C07D321/10C07D327/04C07D327/06C07D333/46C07D333/76G03F7/20G03F7/038G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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