Sputtering target for magnetic recording medium
WO2025254012
Art A1
11. Dezember 2025
Anmelder: TANAKA PRECIOUS METAL TECHNOLOGIES CO., LTD., TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025254012
- Aktenzeichen
- EP25819771
- Anmeldetag
- 29. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34G11B5/738
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TANAKA PRECIOUS METAL TECHNOLOGIES CO., LTD.
TOHOKU UNIVERSITY - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tohoku University
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
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Vertreten von
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