Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and electronic device manufacturing method

WO2025254080 Art A1 11. Dezember 2025

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025254080
Aktenzeichen: EP25819838
Anmeldetag: 2. Juni 2025
Veröffentlichung: 11. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/32G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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