Lithographic apparatus comprising a reflective mark and a transmissive mark and a method of measuring aberrations in a lithographic apparatus

WO2025256840 Art A1 18. Dezember 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025256840
Aktenzeichen: EP25723927
Anmeldetag: 13. Mai 2025
Veröffentlichung: 18. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B5/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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