Use of a composition for cleaning the surface of a semiconductor substrate comprising nickel and aluminium, respective composition and process

WO2025257137 Art A1 18. Dezember 2025

Anmelder: BASF SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025257137
Aktenzeichen: EP25731536
Anmeldetag: 10. Juni 2025
Veröffentlichung: 18. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C11D7/32C11D3/30H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BASF SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 BASF

Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in Ludwigshafen, gegründet 1865. Entwickelt und produziert Chemikalien, Kunststoffe, Agrarprodukte und Materialien für zahlreiche Industriezweige.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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