Release film, base material for release film, method for producing release film, and method for producing semiconductor package
WO2025258078
Art A1
18. Dezember 2025
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025258078
- Aktenzeichen
- EP24943489
- Anmeldetag
- 14. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 18. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/28H01L21/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
2.042 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.