Method for depositing film on substrate and device for depositing film on substrate

WO2025258425 Art A1 18. Dezember 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025258425
Aktenzeichen: EP25821772
Anmeldetag: 30. Mai 2025
Veröffentlichung: 18. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/06C23C16/44H01L21/285H01L21/677H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von