Film-forming atomization device, film forming device, and film forming method

WO2025258645 Art A1 18. Dezember 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025258645
Aktenzeichen: EP25822120
Anmeldetag: 11. Juni 2025
Veröffentlichung: 18. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/448H01L21/365H01L21/368

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von