High-voltage column with permanent magnet lens and positive wafer bias for overlay
WO2025259545
Art A1
18. Dezember 2025
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025259545
- Aktenzeichen
- EP25822217
- Anmeldetag
- 6. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 18. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/14H01J37/20H01J37/244H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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