Thin film deposition device and thin film deposition method

WO2025261005 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: ACM RESEARCH KOREA CO., LTD., CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED, ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025261005
Aktenzeichen: EP25829487
Anmeldetag: 9. Mai 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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