Repetition rate agile laser apparatus and method

WO2025262492 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025262492
Aktenzeichen
EP25726845
Anmeldetag
2. Mai 2025
Veröffentlichung
26. Dezember 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01S3/134H01S3/225
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CYMER, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen