Repetition rate agile laser apparatus and method
WO2025262492
Art A1
26. Dezember 2025
Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025262492
- Aktenzeichen
- EP25726845
- Anmeldetag
- 2. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 26. Dezember 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S3/134H01S3/225
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CYMER, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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