Method for removing titanium oxide film and substrate processing device

WO2025263352 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025263352
Aktenzeichen: EP25830475
Anmeldetag: 6. Juni 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10D64/01C23C16/02H10W20/00H10P50/20H10P14/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von