Substrate processing method, substrate processing system, and parameter correction method

WO2025263366 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025263366
Aktenzeichen: EP25830487
Anmeldetag: 9. Juni 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10P50/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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