Method for manufacturing semiconductor substrate and film-forming composition

WO2025263501 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025263501
Aktenzeichen: EP25830620
Anmeldetag: 17. Juni 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G79/00C09D1/00G03F7/09H10P52/00H10P50/20H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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