Radiation-sensitive composition, pattern forming method, compound, and polymer

WO2025263561 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025263561
Aktenzeichen: EP25830679
Anmeldetag: 19. Juni 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/00C07C309/11C07C309/12C07C309/17C07C309/42C07C381/12C07D307/84C07D307/935C07D333/60C08F212/14C08F220/10C08F232/08G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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