Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

WO2025263599 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025263599
Aktenzeichen: EP25830800
Anmeldetag: 19. Juni 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C07D211/46C07D217/08C07D235/18C07D295/088C07D307/33C07D309/10C07D317/70C07D321/10C07D327/04C07D327/06C07D327/08C07D333/42C07D333/46C07D333/76C08F220/18G03F7/004G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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