Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

WO2025263603 Art A1 26. Dezember 2025

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025263603
Aktenzeichen: EP25830804
Anmeldetag: 19. Juni 2025
Veröffentlichung: 26. Dezember 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D295/03C07D327/06C08F20/10G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.778 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von