Method and system for evaluating the quality of a photolithography mask

WO2026002829 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026002829
Aktenzeichen: EP25734686
Anmeldetag: 22. Juni 2025
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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