Simulation-based defect and repair shape determination for an object for lithography

WO2026003159 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026003159
Aktenzeichen: EP25735961
Anmeldetag: 26. Juni 2025
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/74G03F1/86G03F1/84G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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