Three-dimensional deposition of a deposition structure on a substrate
WO2026003188
Art A1
2. Januar 2026
Anmelder: ETH ZURICH 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026003188
- Aktenzeichen
- EP25736887
- Anmeldetag
- 26. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04C23C14/22C23C14/52C23C14/54H10P50/00H05B33/10H10K71/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ETH ZURICH
- Land
- 🇨🇭 Schweiz
🇨🇭
ETH Zürich
Eidgenössische Technische Hochschule Zürich, Schweizer Hochschule mit Forschungsschwerpunkten in Natur-, Ingenieur- und Materialwissenschaften.
1.410 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.