Verfahren zur Bestimmung von Eigenschaften einer Halbleiterschichtstruktur
WO2026003275
Art A1
2. Januar 2026
Anmelder: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWAND 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026003275
- Aktenzeichen
- EP25735976
- Anmeldetag
- 27. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/31G01N21/55G01N21/84G01N21/64G06N3/02G06N3/08G06N20/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWAND
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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Vertreten von
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