Plasma generation device, control device, and control method
WO2026003949
Art A1
2. Januar 2026
Anmelder: FUJI CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026003949
- Aktenzeichen
- EP24944750
- Anmeldetag
- 25. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Machine Mfg.
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.
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