Radiation irradiation system, beam path monitoring device, and beam path monitoring method

WO2026004192 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION GUNMA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2026004192
Aktenzeichen
EP25825884
Anmeldetag
22. Januar 2025
Veröffentlichung
2. Januar 2026
Rechtsraum
WO
IPC
A61N5/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION GUNMA UNIVERSITY
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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