Porous membrane, resist composition purification method, and resist film manufacturing method

WO2026004486 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026004486
Aktenzeichen: EP25825531
Anmeldetag: 2. Juni 2025
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: B01D69/00B01D61/14B01D71/56B01D71/68G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von