Laminate of silicon substrate and thin film of compound having perovskite-type structure, and magnetic memory element having said laminate

WO2026004768 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED, INSTITUTE OF SCIENCE TOKYO, KANAGAWA INSTITUTE OF INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHN 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026004768
Aktenzeichen: EP25825261
Anmeldetag: 20. Juni 2025
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: H10N50/10H01F10/22H10B61/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
INSTITUTE OF SCIENCE TOKYO
KANAGAWA INSTITUTE OF INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHN
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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