Macromolecular compound, photoresist resin composition, and semiconductor production method

WO2026004902 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: DAICEL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2026004902
Aktenzeichen
EP25826520
Anmeldetag
25. Juni 2025
Veröffentlichung
2. Januar 2026
Rechtsraum
WO
IPC
C08F220/10G03F7/004G03F7/039
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
DAICEL CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Daicel Corporation

Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.

1.524 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen