Compound, method for producing said compound, photosensitive composition containing said compound, and pattern forming method, substrate, and method for producing substrate using said composition
WO2026005060
Art A1
2. Januar 2026
Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION, NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNO 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026005060
- Aktenzeichen
- EP25827127
- Anmeldetag
- 30. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C61/22C07F9/94G03F7/004G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNO - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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