Transition metal cluster compound, method for producing said compound, photosensitive composition containing said compound, pattern forming method using said composition, substrate, and method for producing substrate

WO2026005064 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026005064
Aktenzeichen: EP25827206
Anmeldetag: 30. Juni 2025
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: C07C61/04C07C61/08C07F7/00G03F7/004G03F7/20G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

3.888 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von