Composition for semiconductor photoresist, and pattern formation method using same

WO2026005162 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: SAMSUNG SDI CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026005162
Aktenzeichen: EP24944899
Anmeldetag: 11. Dezember 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004H10P76/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SAMSUNG SDI CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Samsung SDI

Südkoreanisches Unternehmen der Samsung-Gruppe, das Batterien und Energiespeichersysteme für Elektrofahrzeuge, Elektronikgeräte und stationäre Anwendungen entwickelt und produziert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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