Tuned focus ring for uniformity improvement of plasma-assisted processes

WO2026005937 Art A1 2. Januar 2026

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026005937
Aktenzeichen: EP25826918
Anmeldetag: 27. Mai 2025
Veröffentlichung: 2. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H10P72/76

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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