Systems and methods for inspecting and storing reticles
WO2026008228
Art A1
8. Januar 2026
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026008228
- Aktenzeichen
- EP25731124
- Anmeldetag
- 3. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/84G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.