Systems and methods for reticle transmission measurements in a lithographic system

WO2026008237 Art A1 8. Januar 2026

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026008237
Aktenzeichen: EP25731248
Anmeldetag: 4. Juni 2025
Veröffentlichung: 8. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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