Electron beam application device and method for controlling same

WO2026009290 Art A1 8. Januar 2026

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026009290
Aktenzeichen: EP24946430
Anmeldetag: 1. Juli 2024
Veröffentlichung: 8. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/21

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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