Composition for semiconductor manufacturing and film forming method

WO2026009861 Art A1 8. Januar 2026

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026009861
Aktenzeichen: EP25832938
Anmeldetag: 30. Juni 2025
Veröffentlichung: 8. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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