Method for manufacturing multilayer substrate and curable resin composition for manufacturing multilayer substrate
WO2026009927
Art A1
8. Januar 2026
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026009927
- Aktenzeichen
- EP25833079
- Anmeldetag
- 2. Juli 2025
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05K3/46H05K1/03
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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